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ZG-450D多晶硅鑄錠爐本設備采用電阻加熱方式，底部進出料結構。一次裝入多達450Kg/500kg（視坩堝尺寸而定）多晶硅原料，用于多晶硅料的鑄錠。

RG-3-8硒化爐采用國內的氦質譜真空檢漏儀進行壓升率檢測，可保證技術指標的可信和準確，壓升率指標接近或低于國標的小值。

ZM-8-16高溫真空熱處理爐采用立式結構，鉬絲或鎳鉻絲為加熱元件，全金屬隔熱反射屏保溫。由于本公司的隔熱屏具有du創(chuàng)性結構，高溫長期使用變形小，長的用戶己連續(xù)使用近七年未更換過，大大節(jié)省了生產成本或維修費用。

ZN-165-13高溫真空熱處理爐適用于大型鋼件或不銹鋼等在高溫下進行高真空熱處理或高真空釬焊處理。 具有極限真空度高、漏氣率極低、爐溫均勻性佳等特點。

ZM-30-14真空熱處理爐爐內加熱元件采用鉬片，環(huán)狀布置在爐膛周圍，溫度均勻性佳，爐側備有三支監(jiān)視熱電偶用于爐溫均勻性測試。